سيليسيد النحاس

سيليسيد النحاس
الاسم النظامي (IUPAC)
	سيليسيد النحاس
المعرفات
رقم CAS	12159-07-8
بوب كيم	6336988، و133108863، و102602126
	مواصفات الإدخال النصي المبسط للجزيئات [Si].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu] ;
	المعرف الكيميائي الدولي InChI=1S/5Cu.Si ; InChIKey:JUZTWRXHHZRLED-UHFFFAOYSA-N ;
الخواص
الصيغة الجزيئية	Cu3Si
الكتلة المولية	218.72 غ/مول
المظهر	مسحوق لونه فضي
نقطة الانصهار	825 °س
الذوبانية في الماء	غير منحل
المخاطر
ترميز المخاطر	Xi
توصيف المخاطر	R36/37/38
تحذيرات وقائية	S26-S37-S60
	في حال عدم ورود غير ذلك فإن البيانات الواردة أعلاه معطاة بالحالة القياسية (عند 25 °س و 100 كيلوباسكال)
	تعديل مصدري - تعديل

سيليسيد النحاس مركب كيميائي له الصيغة Cu₃Si، يتألف من عنصري السيليكون (السيليسيوم) والنحاس ، ويكون على شكل مسحوق بلوري فضي.

الخواص

لا ينحل سيليسيد النحاس في الماء.
يؤدي تشكيل طبقة من سيليسيد النحاس إلى إعاقة انتشار النحاس في السيليكون وذلك في مجال الأبحاث في علم المواد.^[3]

التحضير

يحضر سيليسيد النحاس المستخدم في صناعة أنصاف النواقل وذلك عن طريق المعالجة الحرارية السريعة Rapid thermal processing لفلز النحاس على ركازة من السيليكون، حيث يبدأ حدوث انتشار عند درجات حرارة تتراوح بين 250–300 °س. إن الاستمرار بعملية التخمير الحراري يعطي الشكل النهائي للسيليسيد.^[4]

وقد تمكنت مجموعة بحث مؤخراً من تحضير بلورات نانوية من سيليسيد النحاس داخل أسلاك نانوية من السيليكون، مما يزيد من ناقليتها الكهربائية.^[5]

الاستخدامات

تستخدم رقائق سيليسيد النحاس ضمن السيليسيدات الفلزية الأخرى في مجال الإلكترونيات.^[6]
تستخدم صفائح الغرافيت المغطاة بسيليسيد النحاس كمصعد في بطاريات الليثيوم الثانوية (القابلة للشحن).^[7]

المراجع

^ صفحة البيانات الكيميائية من alfa ^{[وصلة مكسورة]} نسخة محفوظة 27 ديسمبر 2019 على موقع واي باك مشين.
^ ^ا ^ب ^ج copper; silicon (بالإنجليزية), QID:Q278487
^ Lee, C. S.; Gong, H.; Liu, R.; Wee, A. T. S.; Cha, C. L.; See, A.; Chan, L. (2001). "Study of copper silicide retardation effects on copper diffusion in silicon". Journal of Applied Physics. ج. 90 ع. 8: 3822–3824. DOI:10.1063/1.1343518.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^ M. Setton, J. Van der Spiegel, B. Rothman (1990). "Copper silicide formation by rapid thermal processing and induced room‐temperature Si oxide growth". Applied Physics Letters. ج. 57 ع. 4: 357–359. DOI:10.1063/1.104105.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^ Derek C. Johnson, James M. Mosby, Shannon C. Riha, Amy L. Prieto (2010). "Synthesis of copper silicide nanocrystallites embedded in silicon nanowires for enhanced transport properties". J. Mater. Chem. ج. 20: 1993–1998. DOI:10.1039/b919281f.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^ E. A. Turenko, O. B. Yatsenko (2002). "Plasma Synthesis of Thin Copper Silicide Films on Single-Crystal Silicon". Inorganic Materials. ج. 38 ع. 3: 220–223. DOI:10.1023/A:1014710530668.
^ In-Chul Kim, Dongjin Byun, Sangwha Lee, Joong Kee Lee (2006). "Electrochemical characteristics of copper silicide-coated graphite as an anode material of lithium secondary batteries". Electrochimica Acta. ج. 52 ع. 4: 1532–1537. DOI:10.1016/j.electacta.2006.02.055.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)

هذه بذرة مقالة عن الكيمياء بحاجة للتوسيع. فضلًا شارك في تحريرها.

[1] صفحة البيانات الكيميائية من alfa ^{[وصلة مكسورة]} نسخة محفوظة 27 ديسمبر 2019 على موقع واي باك مشين.

[wikidata-372063e7565efbc12dfd9fff75f1ac97ebb5256c-2] ا ^ب ^ج copper; silicon (بالإنجليزية), QID:Q278487

[3] Lee, C. S.; Gong, H.; Liu, R.; Wee, A. T. S.; Cha, C. L.; See, A.; Chan, L. (2001). "Study of copper silicide retardation effects on copper diffusion in silicon". Journal of Applied Physics. ج. 90 ع. 8: 3822–3824. DOI:10.1063/1.1343518.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)

[4] M. Setton, J. Van der Spiegel, B. Rothman (1990). "Copper silicide formation by rapid thermal processing and induced room‐temperature Si oxide growth". Applied Physics Letters. ج. 57 ع. 4: 357–359. DOI:10.1063/1.104105.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)

[5] Derek C. Johnson, James M. Mosby, Shannon C. Riha, Amy L. Prieto (2010). "Synthesis of copper silicide nanocrystallites embedded in silicon nanowires for enhanced transport properties". J. Mater. Chem. ج. 20: 1993–1998. DOI:10.1039/b919281f.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)

[6] E. A. Turenko, O. B. Yatsenko (2002). "Plasma Synthesis of Thin Copper Silicide Films on Single-Crystal Silicon". Inorganic Materials. ج. 38 ع. 3: 220–223. DOI:10.1023/A:1014710530668.

[7] In-Chul Kim, Dongjin Byun, Sangwha Lee, Joong Kee Lee (2006). "Electrochemical characteristics of copper silicide-coated graphite as an anode material of lithium secondary batteries". Electrochimica Acta. ج. 52 ع. 4: 1532–1537. DOI:10.1016/j.electacta.2006.02.055.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)

[1]

[2]

[3]

[4]

[5]

[6]

[7]

وصلة مكسورة