الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة

الأشعة فوق البنفسجية المتطرفة أو أقصى الأشعة الفوق البنفسجية (بالإنجليزية: Extreme ultraviolet lithography)‏ (المعروفة أيضاً باسم EUV أو EUVL) هي تقنية طباعة حجرية ضوئية باستخدام مجموعة من الأطوال الموجية فوق البنفسجية المتطرفة ، والتي تمتد تقريباً على نطاق واسع يبلغ 2% من FWM حوالي 13.5 نانومتر.

وفي حين أن تكنولوجيا EUV متاحة لإنتاج الكتل ، فإن 53 آلة فقط في جميع أنحاء العالم قادرة على إنتاج الرقاقات باستخدام هذه التقنية قد تم تسليمها خلال عامي 2018 و 2019 ، بينما تم تسليم 201 نظام غمر للتصوير الضوئي خلال نفس الفترة. (يمكن أن تصل تكلفة ماسحات الاتحاد الأوروبي التابعة لشركة إسميل إلى 120 مليون دولار من دولارات الولايات المتحدة ، ووقت ارتفاع الأدوات والظواهر العشوائية ، آخر NXE:وقد تم تزويد 3400 أداة بقدرة أقل على ملء التلاميذ لتصوير أفضل ، ولكن ذلك يؤدي إلى انخفاض الإنتاجية بسبب الاستخدام المحدود لحقل التعرض.

اعتبارا من عام 2020 ، سامسونغ و TSMC التايوانية هي الشركات الوحيدة التي استخدمت تقنية 5 نانومتر.